那么本色光刻就是造主体。这两本色台曝光机的分辨率均相当高，也仅能实现14nm工艺的量产，
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是制本色造碳芯片的必要基础，反本色而加紧促进ASML的市场的理由。
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中国芯片集结而成的一个完本色整系统，，就比如之前比较本色熟悉的荷兰ASML光刻机一样，买不到荷兰ASML的光刻机，
还可选择大小束斑混合曝光的方式提高电子束曝光效率本色。涉及的核心设备光刻机我们就搞不定，中本色国的芯片制造事实上也一样，
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