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上海微电成功研制出90nm精度光刻机，超过光刻机&&&&成为第一大设备领域。
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所以中国在自&&&&主研制光刻机这方面，，而且不论是光刻的面积还是光刻的速度，为国产芯片发展带来更佳的技术产品解决方案。
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