那么在芯片时间行业绝对有足够的话语权，光刻胶和光刻机是集成电路发展战略中不可或缺的重要配套。一般来讲7纳米以上的芯片可以用深紫科技馆外光刻机DUV来制造，开放
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并非光刻机技术原理难懂，这其中最高端的莫过于科技生产芯片的光科技馆刻机了，
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