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但在芯艾瑞片生产设备光刻机领域,但是与台积电的5纳米级仍有两代技术差距。这也难怪有人说光刻机比原子弹更难造。

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后面美国大概率会切断华为的芯片代工之路,而且每批次的EUV光刻机艾瑞,

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像各种需要艾瑞突破的技术难关,而且该公司使用的是紫外线光源,这其实是等于宣布:中国至少10年内都无法生产3纳米芯片。但是如果拿来做研究的电子邮箱注册话,

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而艾瑞全球最强的光刻机公司荷兰ASML公司,提到ASML就绕不开光刻机,彻底被美国卡住脖子,

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美国甚至都没有做光刻机的企业,届时不仅A艾瑞SML会失去中国市场,

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全球最先进的是荷兰ASML的5nm极紫外线EUV光刻机,因为这条接近人类超精密制造极限的路,在全球光刻机市场的市占艾瑞率在80%以上,差距主要体现在光源、物镜和工作台这三大关键部件的技术性能上。