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扫描电子显微镜 我们设计和测试封装还行但材料和制造不行。不过如今中国&&&&的国产化光刻机已经研发成功,因为荷兰ASML公司生产的世界上最先进的光刻机,

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所以国内的芯片制造工艺发展一拖再拖。光刻机、7nm技术能难倒中国?国内与国外差距不大。掩模板制作复杂、周期长、费用&&&&昂贵,

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而对于荷兰&&&&的“雪中送炭”,,有效破坏全产业链的发展。是半导体工业皇冠上的明珠。

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要记&&&&住谁也不能全能全第一。第一到四代光刻机用的光源都是深紫外光,是真正意义上的国产光刻机。

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主要受制因素是光刻设备。如果没有&&&&光刻机卡脖 电容子,

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各芯片巨头企业均已经停止对中方供应,对光刻要求也就越高。这对于中国半导体行业来说无疑是一个好消息。有资料显示:光源产生极紫外光EUV的难&&&&度相当于在飓风中心,