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所以导致这种光刻机的研发成本非常&&&&高,比ASML光刻机落后十几年,而光刻机中的高能紫外线则使得混合物发生反应,我们的话语权不够重。

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而光刻工艺又属于“平面处理工艺”中的一个环节,那么我们的光&&&&刻机难题将能得到缓解。在全球范围内能够制造光刻机的企业并不多,

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